专利名称：光化学反应装置专利类型：发明专利
发明人：小野昭彦,御子柴智,北川良太,田村淳,工藤由纪,黄静
君
申请号：CN201380060239.1申请日：20131108公开号：CN104797741A公开日：20150722
摘要：根据本实施方式的光化学反应装置，其具备层叠体和使离子在下述氧化催化剂层侧和下述还原催化剂层侧之间转移的离子转移路径，该层叠体具有氧化水而生成氧和质子的氧化催化剂层(19)、还原二氧化碳而生成碳化合物的还原催化剂层(20)、及在所述氧化催化剂层和所述还原催化剂层之间形成的、通过光能进行电荷分离的半导体层(17)。
申请人：株式会社东芝
地址：日本东京都
国籍：JP
代理机构：中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人：吴宗颐
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