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LED芯片结构及其制备方法

来源:独旅网
(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利申请

(21)申请号 CN201810159265.4 (22)申请日 2018.02.26

(71)申请人 湘能华磊光电股份有限公司

地址 423038 湖南省郴州市苏仙区白露塘镇有色金属产业园区

(10)申请公布号 CN108400206A

(43)申请公布日 2018.08.14

(72)发明人 周智斌;郭恩卿;徐平

(74)专利代理机构 北京晟睿智杰知识产权代理事务所(特殊普通合伙)

代理人 于淼

(51)Int.CI

权利要求说明书 说明书 幅图

(54)发明名称

LED芯片结构及其制备方法

(57)摘要

本申请公开了一种LED芯片结构及其制备

方法,设计LED芯片设计技术领域,方法依次包括:处理衬底、生长缓冲层、生长N型半导体层N‑GAN、生长多量子阱层、生长P型半导体层P‑GAN、生长分段式电流阻挡层、生长电流扩展层、生长P型电极和N型电极、生长透明绝缘层;其中,分段式电流阻挡层包括第一电流阻挡层N‑CBL和第二电流阻挡层P‑CBL,第一电流阻挡层N‑CBL和/或第二电流阻挡层P‑CBL为分段式结

构;第一电流阻挡层N‑CBL与N型半导体层N‑GAN远离衬底的表面之间的夹角为10°≤α≤25°,第二电流阻挡层P‑CBL与P型半导体层P‑GAN远离衬底的表面之间的夹角为10°≤θ≤25°。

法律状态

法律状态公告日

2018-08-14 2018-08-14 2018-08-14 2018-09-07 2018-09-07 2020-04-17

法律状态信息

公开 公开 公开

实质审查的生效 实质审查的生效

发明专利申请公布后的驳回法律状态

公开 公开 公开

实质审查的生效 实质审查的生效

发明专利申请公布后的驳回

权利要求说明书

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说明书

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