专利名称：成膜装置和成膜装置的清洁方法专利类型：发明专利发明人：加藤寿,本间学申请号：CN200910223097.1申请日：20091118公开号：CN101736320A公开日：20100616
摘要：本发明提供一种成膜装置和成膜装置的清洁方法。所公开的成膜装置包括：基座，其能旋转地设置在容器内，在一个面上具有用于载置基板的基板载置部；气体供给系统，其对上述基座的上述一个面供给原料气体；清洁用构造体，其具有：配置在基座的上方，朝着基座的上表面开口，并划分出倒凹状空间的第1凹状构件；在第1凹状构件的上方，朝着第1凹状构件开口并与第1凹状构件间划分出气体流路的第2凹状构件；向倒凹状空间供给清洁气体的气体供给部；以及与气体流路连通并向容器的外部延伸的排气管；以及排气口，其形成在容器上，用于对原料气体进行排气。
申请人：东京毅力科创株式会社
地址：日本东京都
国籍：JP
代理机构：北京林达刘知识产权代理事务所
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