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含第Ⅳ族金属元素化合物、其制备方法、含其的膜形成用前体组合物

2023-02-18 来源:独旅网
专利内容由知识产权出版社提供

专利名称:含第Ⅳ族金属元素化合物、其制备方法、含其的膜

形成用前体组合物及用其的膜形成方法

专利类型:发明专利

发明人:韩元锡,高元勇,朴明镐申请号:CN201980011626.3申请日:20190201公开号:CN111683953A公开日:20200918

摘要:本发明提供新型含第Ⅳ族金属元素的化合物、所述含第Ⅳ族金属元素的化合物的制备方法、包含所述含第Ⅳ族金属元素的化合物的膜形成用前体组合物、以及利用所述含第Ⅳ族金属元素的化合物的含第Ⅳ族金属元素膜的形成方法。具有如下优点:能够通过使用本申请的实现例所涉及的新型含第Ⅳ族金属元素的化合物的原子层沉积法而与以往已知的含第Ⅳ族金属元素的化合物相比在更高的温度下形成含第Ⅳ族金属元素膜。

申请人:UP化学株式会社

地址:韩国京畿道

国籍:KR

代理机构:北京市中伦律师事务所

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